Common Ion Exchange 탈염 처리 시스템

일반적인 이온 교환 탈염 처리 시스템, 약산성 양극 수지 및 강산 양극 수지 또는 약알칼리 음극 수지와 강알칼리 음극 수지는 동일한 교환기, 즉 이층 침대 또는 2 칸 이층 침대 교환기로 설정됩니다.

1. 이층 침대 교환기 강산 (또는 강염기) 수지 밀도보다 약산 (또는 약염기) 수지 밀도를 사용하면 강산 (또는 강염기) 수지 밀도가 작아 강수지의 상부에있는 약한 수지가 먼저 약한 수지 교환을 통해 하향식으로 흐르고, 그 다음에는 강한 수지 교환을 통해; 재생 과정에서 재생 액체는 상향식이며 강한 수지가 먼저 재생된 다음 약한 수지가 재생됩니다.



2. 이중 챔버 이중층 교환기 교환기에서 다공성 칸막이가있는 상부 및 하부 챔버로 나뉘며, 약한 수지와 강한 수지를 별도로 채워 이중 챔버 이층 침대 또는 이중 챔버 플로팅 베드를 형성합니다 (강한 수지는 상부 챔버에 있고, 약한 수지는 하부 챔버에 있으며, 달릴 때 물은 상향식이며, 그리고 재생 액체는 재생될 때 위에서 아래로입니다).

이층 침대와 이중 챔버 이층 침대의 장점은 장비를 늘리지 않고 약한 수지 교환 용량과 쉬운 재생의 장점을 사용하여 교환기의 효율성을 향상시키고 재생제의 소비를 줄이는 것입니다. 특히, 양이온 교환 이층 침대에는 명백한 장점이 있습니다.

음이온 교환 이층 침대와 2칸 이층 침대의 경우 위와 같은 장점이 있지만 수지의 콜로이드 실리콘 오염을 일으키기 쉽다는 명백한 단점도 있습니다. 이는 동일한 교환기에서 강한 음극 수지와 약한 음극 수지를 재생할 때 강한 음극 수지에서 배출되는 재생 폐액에 더 높은 실리콘 화합물이 포함되어 있기 때문입니다. 약한 음극 수지를 통해 흐를 때 약한 음극 수지는 OH-를 흡수하기 쉽고 재생 액체의 pH 값을 감소시켜 실리콘 화합물이 콜로이드 성 규산을 형성하고 수지에 증착되기 쉽습니다. 특히 온도가 낮을 때 재생 후 청소가 어려운 경우가 많고 수지가 콜로이드 실리콘으로 오염되어 있기 때문에 폐수의 실리콘 함량이 높아 수질 및 주기적인 물 생산에 영향을 미칩니다.



콜로이드 실리콘 오염을 방지하기 위한 조치:

1. 단계별 재생
더 빠른 유속으로 1%NaOH 재생액을 사용하면 수지를 초기에 재생할 수 있으며 이때 교환되는 규산의 양은 많지 않지만 약한 음극 수지는 초기에 재생될 수 있으며 수지층은 알칼리성입니다. 그런 다음 3%-4% NaOH를 사용하여 더 낮은 유속에서 재생을 수행하여 pH 값의 감소로 인한 콜로이드 규산의 침전을 피할 수 있습니다.

2. 재생액의 온도를 적절히 증가시키십시오
NaOH 재생 액체의 온도는 히터를 추가하거나 응축수를 사용하여 재생 액체를 구성하여 재생 효과를 향상시킴으로써 약 50°C까지 높일 수 있습니다.